반도체 제조 과정은 매우 복잡하고 정밀합니다. 그 중에서도 ‘세정’, ‘식각’, ‘박막 증착’ 등 다양한 공정에서 자주 등장하는 기술이 바로 **플라즈마(Plasma)**입니다. 오늘은 플라즈마 기술을 뒷받침하는 장비 중 하나인 **Remote Plasma Source(RPS)**에 대해 알아보겠습니다.플라즈마란 무엇인가요?플라즈마는 고체, 액체, 기체에 이은 제4의 물질 상태로, 전자가 분리되어 이온과 자유 전자가 혼재된 상태를 말합니다. 쉽게 말해, 기체에 아주 강한 에너지를 가해서 전기적으로 활성화된 상태라고 보면 됩니다. 이 플라즈마는 반도체 공정에서 미세한 입자 제거, 표면 반응 유도, 세정 등에 널리 활용됩니다.그렇다면 Remote Plasma Source(RPS)는?Remote Plasma ..
